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PANDORA 多功能台式原子层沉积系统
Forge Nano 开发的 PANDORA 台式原子层沉积系统巧妙地将粉末原子层沉积技术和平面原子层沉积薄膜技术结合，是绝无仅有的高效研发工具。
复纳科学仪器（上海）有限公司 400-6699-117 转 6730免费咨询 -
P 系列粉末原子层沉积系统
P 系列粉末原子层沉积系统粉末包覆可有效提升材料性能与使用寿命，如锂电正极或负极材料，经过表面包覆处理后在放电性能及循环使用寿命方面都有明显提升，但目前工业的包覆手段以机械混合的干法为主，该方法包覆均匀性较差
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原子层沉积系统（ALD）
NLD-3500（M）原子层沉积系统特点：NLD-3500是一款紧凑型独立的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统，带Labview软件，具备四级密码控制的用户授权保护功能。
那诺-马斯特/Nano-Master 400-6699-117 转 1000免费咨询 -
ALD原子层沉积设备-SVT
NorthStar ALD系统介绍：NorthStar ALD原子层沉积系统提供各种淀积方法，包括热淀积以及能量增强淀积。
SVT Associates 400-6699-117 转 1000免费咨询 -
牛津仪器OPAL原子层沉积系统（ALD）
紧凑型开放式样品载入原子层沉积（ALD）系统 OpAL提供了独一无二的热ALD设备，可以简单明了的升级使用等离子体，使得在同一紧凑设备中集成了等离子体和热ALD。
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原子层沉积技术ALD-P1000
原子层沉积技术ALD-P1000技术参数衬底尺寸和类型大小不等的3D结构物件（例如：机械零件、玻璃或金属片、硬币、珠宝以及医疗植入物等）工艺温度50 - 400 °C标准选件Al2O3, ZnO,
Picosun 400-6699-117 转 1000免费咨询 -
THEIA超快平面原子层沉积系统
THEIA 超快平面原子层沉积系统THEIA 是一款高性能，稳定，灵活，可靠且安全的研发型原子层沉积系统，兼具工业生产解决方案的优势。
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NLD-3000 ALD原子层沉积系统
NLD-3000原子层沉积系统特点：NLD-3000是一款独立的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统，带Labview软件，具备四级密码控制的用户授权保护功能。
那诺-马斯特/Nano-Master 400-6699-117 转 1000免费咨询 -
NLD-4000 (A) ALD全自动原子层沉积系统
NLD-4000（A）全自动原子层沉积系统特点：NLD-4000（A）是一款全自动独立的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统，带Labview软件，具备四级密码控制的用户授权保护功能。
那诺-马斯特/Nano-Master 400-6699-117 转 1000免费咨询 -
芬兰原子层沉积设备PICOSUN™ALD- P300系列
芬兰原子层沉积设备PICOSUN™ALD- P300系列可沉积如Al2O3、ZnO、TiO2、SiO2、ZrO2 和HfO2、Ta2O5，氮化物（TiN、AlN）以及金属。
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